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更多膜厚量测仪FE-300的特点
*1 细规格请咨询
- 测试范围涵盖薄膜到厚膜
- 基于绝对反射率光谱分析膜厚
- 小型・低价，精度高
- 无复杂设定，操作简单，短时间内即可上手
- 外观新颖，操作性提高
- 非线性*小二乘法，实现光学常数解析（n：折射率、k：消光系数）
对应膜种
○ 多层膜 ○ 折射率倾斜
○ 非干涉膜 ○ 超晶格结构
用途
○ 光学薄膜（ARfilm、ITO等）
○ FPD相关（ITO、PI、PC、CF等）
测量项目
多层膜厚解析
绝对反射率测量
光学常数解析（n：折射率k:消光系数）
测量实例
式样
| 型号 | FE-300V | FE-300UV | FE-300NIR *1 | |
| 本体 | 标准型 | 薄膜型 | 厚膜型 | 厚膜型（高分辨率） |
| 样品尺寸 | *大 8 寸晶圆（ 厚度 5 mm ） | |||
| 测量膜厚范围（ｎｄ值） | 100 nm ～ 40 μm | 10 nm ～ 20 μm | 3 μｍ ～ 300 μm | 15 μｍ ～ 1.5 mm |
| 测量波长范围 | 450 nm ～ 780 nm | 300 nm ～ 800 nm | 900 nm ～ 1600 nm | 1470 nm ～ 1600 nm |
| 测量精度 | ± 0.2 nm 以内 *2 | ± 0.2 ｎｍ 以内 *2 | - | - |
| 重复精度 | 0.1 nm 以内 *3 | 0.1 nm 以内 *3 | - | - |
| 测量时间 | 0.1 s ～ 10 s 以内 | |||
| 光斑直径 | 约 φ 3 mm | |||
| 光源 | 卤素灯 | 氙灯与卤素灯 | 卤素灯 | 卤素灯 |
| 通讯接口 | USB | |||
| 尺寸，重量 | 280（W) × 570（D） × 350（H） mm、 约 24 kg | |||
| 软件功能 | ||||
| 标准 | 波峰波谷解析、FFT解析、*适化法解析、*小二乗法解析 | |||
| 选配功能 | 材料评价软件、薄膜模型解析软件、标准片解析 | |||
*2 相对于VLSI 公司产膜厚标准（100nm SiO2/Si）的膜厚保证书记载的测量保证值范围
*3 VLSI 公司产膜厚标准（100nm SiO2/Si）的同一点反复测量时的扩张不确定度（包括因子2.1）
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