膜厚测量仪FE-300

简  述:
小型・低价格!简单操作”非接触”膜厚量测仪FE-300!
品  牌:
日本 大塚电子
产品型号:
  • FE-300
膜厚量测仪FE-300的特点
  • 测试范围涵盖薄膜到厚膜
  • 基于绝对反射率光谱分析膜厚
  • 小型・低价,精度高
  • 无复杂设定,操作简单,短时间内即可上手
  • 外观新颖,操作性提高
  • 非线性*小二乘法,实现光学常数解析(n:折射率、k:消光系数)
对应膜种
○ 多层膜                        ○ 折射率倾斜
○ 非干涉膜                    ○ 超晶格结构
用途
○ 光学薄膜(ARfilm、ITO等)
○ FPD相关(ITO、PI、PC、CF等)
测量项目
多层膜厚解析
绝对反射率测量
光学常数解析(n:折射率k:消光系数)
测量实例
式样
型号  FE-300V FE-300UV FE-300NIR *1
本体 标准型 薄膜型 厚膜型 厚膜型(高分辨率)
样品尺寸 *大 8 寸晶圆( 厚度 5 mm )
测量膜厚范围(nd值) 100 nm ~ 40 μm 10 nm ~ 20 μm 3 μm ~ 300 μm 15 μm ~ 1.5 mm
测量波长范围 450 nm ~ 780 nm 300 nm ~ 800 nm 900 nm ~ 1600 nm 1470 nm ~ 1600 nm
测量精度 ± 0.2 nm 以内 *2 ± 0.2 nm 以内 *2 - -
重复精度 0.1 nm 以内 *3 0.1 nm 以内 *3 - -
测量时间 0.1 s ~ 10 s 以内
光斑直径 约 φ 3 mm
光源 卤素灯 氙灯与卤素灯 卤素灯 卤素灯
通讯接口 USB
尺寸,重量 280(W) × 570(D) × 350(H) mm、 约 24 kg
软件功能
标准 波峰波谷解析、FFT解析、*适化法解析、*小二乗法解析
选配功能 材料评价软件、薄膜模型解析软件、标准片解析
*1  细规格请咨询 
*2  相对于VLSI 公司产膜厚标准(100nm SiO2/Si)的膜厚保证书记载的测量保证值范围
*3  VLSI 公司产膜厚标准(100nm SiO2/Si)的同一点反复测量时的扩张不确定度(包括因子2.1)
 
 

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